一、JDC-HH4低溫恒溫水浴鍋產品用途：

產品用于石油、化工、電子儀表、物理、化學、生物工程、醫藥衛生、生命科學、輕工食品、物性測試及化學分析等研究部門，高等院校，企業質檢及生產部門，為用戶工作時提供一個熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，對試驗樣品或生產的產品進行恒定溫度試驗或測試。也可與其它產品配套使用，建立體外恒溫場，供其它的產品(如反應釜)提供輔助加熱或制冷的熱源或冷源。

二、產品優點：

1、全封閉壓縮機制冷,制冷系統具有過熱、過電流多重保護裝置。

2、槽內設有內循環功能，可提高攪拌的恒溫精度。

3、攪拌位有2位、4位、6位和8位之分，可安用戶要求訂做。

4、采用數字PID自動控制系統，溫度LED數字顯示。

5、加熱、制冷微電腦控制，溫度偏差可修正。

6、內膽采用不銹鋼板制作，清潔衛生，美觀耐腐蝕。

7、底部帶有W向腳輪，方便隨時移動。

三、JDC-HH4低溫恒溫水浴鍋技術參數：

1、電源電壓：220V  50HZ         

2、控溫范圍：0～99℃

3、均勻度：≤±0.5℃                  

4、分辨率：0.1℃

5、顯示方式：LED                 

6、制冷功率：300W

7、加熱功率：800W               

8、攪拌位：4位                 

9、攪拌速度：0-1400轉\分鐘

10、瓶追大容量：500ml  

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